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Colonne GC phase AITSE52 longueur 50m Ø 0.53 mm épaisseur de film 1.50 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 50m Ø 0.53 mm épaisseur de film 1.50 µm

Réf. UGAP : 2736151 Réf. constructeur : AITSE52-053-150-50

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=30 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=30 m

Réf. UGAP : 2740832 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-015-30

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE52 longueur 30m Ø 0.53 mm épaisseur de film 1.50 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 30m Ø 0.53 mm épaisseur de film 1.50 µm

Réf. UGAP : 2736150 Réf. constructeur : AITSE52-053-150-30

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Réf. UGAP : 2736233 Réf. constructeur : AITSE54-025-050-10

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740835 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-018-5

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740834 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-018-2

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736232 Réf. constructeur : AITSE54025025105

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=20 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=20 m

Réf. UGAP : 2740837 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-018-20

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Réf. UGAP : 2736235 Réf. constructeur : AITSE54-025-050-30

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740836 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-018-10

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Réf. UGAP : 2736234 Réf. constructeur : AITSE54-025-050-15

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.20mm, L=1 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.20mm, L=1 m

Réf. UGAP : 2740839 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-020-1

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Réf. UGAP : 2736237 Réf. constructeur : AITSE54-025-050-60

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=30 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.18mm, L=30 m

Réf. UGAP : 2740838 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-018-30

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.50 µm

Réf. UGAP : 2736236 Réf. constructeur : AITSE54-025-050-50

Sous30 j.