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Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736228 Réf. constructeur : AITSE54-025-025-50

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=20 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=20 m

Réf. UGAP : 2740849 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-025-20

Sous30 j.

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 60 + 5 m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 60 + 5 m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736231 Réf. constructeur : GAPSE54025025605

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740848 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-025-10

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736230 Réf. constructeur : AITSE54-025-025-60

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736249 Réf. constructeur : AITSE54-032-010-15

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=60 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=60 m

Réf. UGAP : 2740851 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-025-60

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=30 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.25mm, L=30 m

Réf. UGAP : 2740850 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-025-30

Sous30 j.

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 10 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 10 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736248 Réf. constructeur : GAPSE54032010102

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740853 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-032-2

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736251 Réf. constructeur : AITSE54-032-010-50

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=1 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=1 m

Réf. UGAP : 2740852 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-032-1

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736250 Réf. constructeur : AITSE54-032-010-30

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736253 Réf. constructeur : AITSE54032010105

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.32mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.32mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740855 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-032-10

Sous30 j.