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Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740854 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-032-5

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736252 Réf. constructeur : AITSE54-032-010-60

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=30 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=30 m

Réf. UGAP : 2740809 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS03230

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736255 Réf. constructeur : AITSE54-032-025-15

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=20 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=20 m

Réf. UGAP : 2740808 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS03220

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.25 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.25 µm

Réf. UGAP : 2736254 Réf. constructeur : AITSE54-032-025-10

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=1 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=1 m

Réf. UGAP : 2740811 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-053-1

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 30m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736241 Réf. constructeur : AITSE54-025-100-30

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 15m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736240 Réf. constructeur : AITSE54-025-100-15

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=60 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=60 m

Réf. UGAP : 2740810 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS03260

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740813 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-053-5

Sous30 j.

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 30 + 5 m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE54 longueur 30 + 5 m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736243 Réf. constructeur : GAPSE54025100305

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.53mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740812 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-053-2

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736242 Réf. constructeur : AITSE54-025-100-50

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 105m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736245 Réf. constructeur : AITSE54025100105

Sous30 j.