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Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740807 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS03210

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736205 Réf. constructeur : AITSE54-020-010-60

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.32mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740806 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-032-5

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 50m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736204 Réf. constructeur : AITSE54-020-010-50

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740825 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-010-10

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 20m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.20 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 20m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.20 µm

Réf. UGAP : 2736207 Réf. constructeur : AITSE54-020-020-20

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740824 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-010-5

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.20 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 10m Ø 0.20 mm épaisseur de film 0.20 µm

Réf. UGAP : 2736206 Réf. constructeur : AITSE54-020-020-10

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=1 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=1 m

Réf. UGAP : 2740827 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-015-1

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 40m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 40m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Réf. UGAP : 2736193 Réf. constructeur : AITSE54-018-020-40

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=20 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.10mm, L=20 m

Réf. UGAP : 2740826 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-010-20

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 20m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 20m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Réf. UGAP : 2736192 Réf. constructeur : AITSE54-018-020-20

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.15mm, L=5 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap),diam int 0.15mm, L=5 m

Réf. UGAP : 2740829 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-015-5

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 60m Ø 0.18 mm épaisseur de film 0.20 µm

Réf. UGAP : 2736195 Réf. constructeur : AITSE54-018-020-60

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film HMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740828 Réf. constructeur : AITHT-HMDS-015-2

Sous30 j.