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Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740780 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-015-2

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE52 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 60m Ø 0.25 mm épaisseur de film 1.00 µm

Réf. UGAP : 2736082 Réf. constructeur : AITSE52-025-100-60

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE52 longueur 10m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 10m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736085 Réf. constructeur : AITSE52-032-010-10

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=20 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.15mm, L=20 m

Réf. UGAP : 2740783 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS01520

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap),diam int 0.15mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap),diam int 0.15mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740782 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS01510

Sous30 j.

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE52 longueur 8 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE52 longueur 8 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736084 Réf. constructeur : GAPSE5203201082

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée avec film CarboWax (Retention Gap), diamètre interne 0.53mm, longueur 60 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée avec film CarboWax (Retention Gap), diamètre interne 0.53mm, longueur 60 m

Réf. UGAP : 2740769 Réf. constructeur : AIT-WAX-053-60

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE52 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 15m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736087 Réf. constructeur : AITSE52-032-010-15

Sous30 j.

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE52 longueur 10 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Colonne GC avec pré-colonne intégrée phase AITSE52 longueur 10 + 2 m Ø 0.32 mm épaisseur de film 0.10 µm

Réf. UGAP : 2736086 Réf. constructeur : GAPSE52032010102

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée avec film CarboWax (Retention Gap), diamètre interne 0.53mm, longueur 30 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée avec film CarboWax (Retention Gap), diamètre interne 0.53mm, longueur 30 m

Réf. UGAP : 2740768 Réf. constructeur : AIT-WAX-053-30

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=2 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=2 m

Réf. UGAP : 2740771 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-005-2

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE54 longueur 5m Ø 0.05 mm épaisseur de film 0.05 µm

Colonne GC phase AITSE54 longueur 5m Ø 0.05 mm épaisseur de film 0.05 µm

Réf. UGAP : 2736169 Réf. constructeur : AITSE54-005-005-2

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=1 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=1 m

Réf. UGAP : 2740770 Réf. constructeur : AITHT-DPTMDS-005-1

Sous30 j.

Colonne GC phase AITSE52 longueur 30m Ø 0.53 mm épaisseur de film 7.00 µm

Colonne GC phase AITSE52 longueur 30m Ø 0.53 mm épaisseur de film 7.00 µm

Réf. UGAP : 2736168 Réf. constructeur : AITSE52-053-700-30

Sous30 j.

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=10 m

Pré-colonne GC, silice fondue désactivée utilisation haute T, film DPTMDS (Retention Gap), diam int 0.05mm, L=10 m

Réf. UGAP : 2740773 Réf. constructeur : AITHTDPTMDS00510

Sous30 j.